机译:用300°照射的56Fe靶中核素产生的截面, 与氢气数据相比,500,750,1000,1500和2600 meV质子 目标照射300,500,750,1000和1500 meV /核子56Fe离子
机译:在每个氢原子中〜9Be,〜11B,〜12C,〜14N,〜15N,〜16O,〜20Ne,〜22Ne,〜56Fe和〜58Ni原子核中400-650 MeV的光束的片段的生产截面目标。 I.装药量变化和总横截面
机译:在液态氢靶中相互作用的400-650 MeV PER核素〜9Be,〜11B,〜12C,〜14N,〜16O,〜20Ne,〜56Fe和〜58Ni核束的片段的生产截面。二。碎片的同位素截面
机译:从200-1000 MeV质子辐照的铅靶向后方向的CTOF测量和中子光谱的蒙特卡洛分析
机译:在300,500,750,1000和1500 mev的P + Fe碰撞中测量残留核横截面和反冲能量
机译:在钽靶中产生的铽菌放射性核苷酸的生产横截面测量诱导0.3-1.7 gev质子和相应的厚靶产率计算
机译:在300、500、750、1000和1500 MeV的p + Fe碰撞中测量剩余原子核横截面和反冲能量
机译:100-2600 mev质子辐照薄靶中残余产物核素产率的实验和理论研究